中国光刻机突破！清华大学SSMB- EUV光刻技术变成“光刻厂” 中国芯片制程换道超车将成大趋势！全球唯一全产业链的国家会被封锁住吗？（2023）@laofangDDD

中国光刻机技术颠覆ASML？深入解读清华大学SSMB-EUV技术Подробнее

网传清华大学弯道超车光刻机新方案，冷静！Подробнее

清华大学SSMB-EUV光刻机，北京高能同步辐射光源HEPS项目Подробнее

【更正版】中國穩態微聚束SSMB超越ASML極紫外光EUV！？是真的嗎？要如何做到？Подробнее

清华大学最新的SSMB- EUV 极紫外光的光刻机实现技术突破，是解决芯片卡脖子的问题？还是能弯道超车呢？是ASMI总裁一语成谶，还是提前知道消息呢？是像韩国团队公布的超导方案那样吗？Подробнее

【闲聊】EUV光刻机要实现技术突破了？| 制造芯片为什么需要光刻机 | 生产光刻机究竟有多难 | SSMB的由来 | 实事求是才是科学发展的道路Подробнее

取消321亿芯片订单，中企引入首台国产光刻机。#光刻机 #科技创新 #中国芯片Подробнее

[天天硬事3763期]——01 中国清华大学正主导建设SSMB-EUV光源工厂，中国有机会直接拿下芯片产业，直接干翻ASML 02 超算TOP500合伙人图灵奖得主称中国超算能力可能超过了所有国家Подробнее

作为「化学第一大国」，为什么中国造芯片的光刻胶还得进口？Подробнее

ASML 設備出口受限制，中國設備能做到幾奈米？《國際凌界點》EP.20Подробнее

如何制造7纳米芯片：DUV光刻机与多重曝光Подробнее

全球最強的光刻機為何出在荷蘭，而不是美國日本德國？晶片界的唯一老大 - 荷蘭ASMLПодробнее

光刻机详解1：镜头及成像系统｜如何刻出更小的芯片Подробнее

解读清华Euv光源光刻厂我们国产光刻机现状？多久能造出国产EUV#中芯国际 #EUV光刻机 #华为#半导体 #光刻机Подробнее

芯片制造详解04：光刻技术与基本流程Подробнее

揭秘華為半導體供應網，自研光刻機何時上線？《國際凌界點》S02E14Подробнее

中國光刻機自主化最新進度，是誰在暗中發力？《國際凌界點》S02E12Подробнее

美中晶片戰持續升溫，沒 EUV 機台，中國不也挺進 7nm？ 什麼是微影製程？Подробнее

光刻机最核心部件！揭秘EUV光源系统，为何这么难造？Подробнее